![]() |
|
|
Технология полупроводникового кремния250-350 мм. Реакция хлорирования протекает с выделением большого количества теплоты, которая отводится водой через стенки аппарата. Температура в зоне реакции 1073-1473 К. Реакционные газы из хлоратора поступают в конденсатор, где улавливается до 90-95 % твердых хлоридов и других возгонов, затем в скруббер, орошаемый тетрахлорсиланом. В скруббере происходит мокрая очистка, и все твердые частицы практически полностью удаляются. Поступающая в кипятильник суспензия отпаривается. Скапливающиеся в нем твердые хлориды периодически выгружаются. Пары тетрахлорсилана конденсируются в конденсаторах, охлаждаемых водой и рассолом, и жидкий продукт собирается в сборниках, откуда его подают на ректификационную очистку. На некоторых предприятиях [ИЗ] применяют горизонтальные печи хлорирования. В этом случае конденсационная система представляет собой единое целое с хлоратором. Диаметр горизонтальной части печи - реактора достигает 1600 мм. С одной стороны печь закрыта дверцей, а с другой соединяется с конденсаторами. Горизонтальная и вертикальная трубы, а также шту- J цер для ввода хлора снабжены рубашкой для охлаждения. Конденса-ционная часть установки, состоящая из трех расположенных друг над другом горизонтальных труб, также имеет рубашки орошения. В первой и второй трубах имеются щнеки со скребками, непрерывно снимающие со стенок твердые водгоны. Для сбора твердых возгонов служит абшайдер, нижний конец которого закрыт шибером и оборудован пневматическим вибратором для разрыхления осадков на стенках. Хвостовая часть конденсационной системы выполнена по схеме, приведенной на рис. 78. Жидкий продукт поступает на ректификационную очистку. Получение дихлорсилана и моносилана Дихлорсилан, как правило, получают при взаимодействии кремния с хлористым водородом. Выход дихлорсилана может достигать 30 %. Кроме этого, дихлорсилан может быть получен восстановлением тетра-хлорида кремния формальдегидом при протекании реакций диспропор-ционирования трихлорсилана на катализаторах1. Дихлорсилан обра- | 'Па. 4Ш845.США. 1978. 182 зуется так же как побочный продукт при получении поликристалличес-кого кремния при водородном восстановлении трихлорсилана. В составе паро-газовой смеси после аппаратов восстановления обнаруживают до 0,4-0,6 % (объемн.) дихлорсилана. Для увеличения выхода дихлорсилана прибегают к активации контактной массы хлором. Повышение выхода дихлорсилана достигают также при взаимодействии смеси водорода и хлористого водорода с кремнием в присутствии однохлористой меди [114]. Высокий выход дихлорсилана (до 24 %) при прямом синтезе получают при использовании порошковой меди, обработанной промоторами - тяжелыми металлами восьмой группы (Os, Rh и др.). Наиболее известен метод восстановления паров тетрахлорсилана формальдегидом. Пары тетрахлорсилана и формальдегид пропускают над катализатором (Т-А1203) при 673 К [115]: SiCl4 + 2НСНО SiH2Cla + + 2СО + 2HCI. Выход дихлорсилана достигает 21 %. Наряду с дихлорсиланом образуются другие хлорсиланы (моно- и трихлорсилан). При проведении процесса возникают проблемы, связанные с отравлением катализатора, кроме того, формальдегид и продукты его распада являются токсичными веществами. Получение дихлорсилана методом каталитического диспропорциони-катализатор рования по реакции: 2SfflCl3 SiH2Cl, + SiCI4 наиболее прост для реализации в промышленности. На катализаторе протекают также и побочные процессы с образованием монохлорсилана и моносилана: 2SiH2Cl2 ка1^и'мар siH3Cl + SiHCl3; 2SiH3Cl Ка^"Ю>9 SiHA + SiH2Cl2. Подбором соответствующих режимов проведения процесса и катализатора можно добиться селективного протекания реакции образования дихлорсилана или моносилана. В качестве катализатора используют жидкие соединения (краун-эфиры, первичные и вторичные амины, а-оксоамины) и твердые катализаторы (активированный уголь, ионообменные смолы с функциональными группами из третичных и четвертичных аминов [116]). Применение жидких катализаторов менее предпочтительно, так как при этом необходимо использовать в реакционной системе сольвенты-растворители (гексан, толуол, гидрофуран и т.п.), которые могут загрязнять материал углеродом. Моносилан впервые был получен Веллером и Буффом действием раствора соляной кислоты на силициды магния и кальция. Продукты реакции являются сложной смесью силанов и их суммарный выход составляет < 25-38 %. При проведении реакции между силицидом магния и бромистым или хлористым аммонием в жидком аммиаке выход силана достигает 70-80 %. Существуют другие методы получения моносила»а [117], например 183 при разложении силицида магния солянокислым гадразином в среде безводного гидразина, восстановлении полигалоидных соединений кремния простыми и смешанными солеобразными гидридами, при взаимодействии тетрахлорсилана с литийалюминийгидридом в эфирной среде, диоксане, при взаимодействии гидрида лития, растворенного в эвтектической смеси хлоридов лития и калия и с четыреххлористым кремнием при 632 К, и др. Силан получают также при разложени |
< К СПИСКУ КНИГ > 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15 16 17 18 19 20 21 22 23 24 25 26 27 28 29 30 31 32 33 34 35 36 37 38 39 40 41 42 43 44 45 46 47 48 49 50 51 52 53 54 55 56 57 58 59 60 61 62 63 64 65 66 67 68 69 70 71 72 73 74 75 76 77 78 79 80 81 82 83 84 85 86 87 88 89 90 91 92 93 94 95 96 97 98 99 100 101 102 103 104 105 106 107 108 109 110 111 112 113 114 115 116 117 118 119 |
Скачать книгу "Технология полупроводникового кремния" (4.95Mb) |
[каталог] [статьи] [доска объявлений] [прайс-листы] [форум] [обратная связь] |
|
Введение в химию окружающей среды. Книга известных английских ученых раскрывает основные принципы химии окружающей
среды и их действие в локальных и глобальных масштабах. Важный аспект книги
заключается в раскрытии механизма действия природных геохимических процессов в
разных масштабах времени и влияния на них человеческой деятельности.
Показываются химический состав, происхождение и эволюция земной коры, океанов и
атмосферы. Детально рассматриваются процессы выветривания и их влияние на
химический состав осадочных образований, почв и поверхностных вод на континентах.
Для студентов и преподавателей факультетов биологии, географии и химии
университетов и преподавателей средних школ, а также для широкого круга
читателей.
Химия и технология редких и рассеянных элементов. Книга представляет собой учебное пособие по специальным курсам для студентов
химико-технологических вузов. В первой части изложены основы химии и технологии
лития, рубидия, цезия, бериллия, галлия, индия, таллия. Во
второй
части книги изложены основы химии и технологии скандия, натрия, лантана,
лантаноидов, германия, титана, циркония, гафния. В
третьей части книги изложены основы химии и технологии ванадия, ниобия,
тантала, селена, теллура, молибдена, вольфрама, рения. Наибольшее внимание
уделено свойствам соединений элементов, имеющих значение в технологии. В
технологии каждого элемента описаны важнейшие области применения, характеристика
рудного сырья и его обогащение, получение соединений из концентратов и отходов
производства, современные методы разделения и очистки элементов. Пособие
составлено по материалам, опубликованным из советской и зарубежной печати по
1972 год включительно.
|
|