![]() |
|
|
Технология полупроводникового кремнияомент прохождения первого (инжектирующего) импульса в образец вводят н.н.3., увеличивающие проводимость образца. По окончании действия инжектирующего импульса число н.н.з. уменьшается вследствие рекомбинации, поэтому сопротивление контакта начинает возвращаться к исходной величине, повышаясь с увеличением времени. Напряжение на образце в момент начала второго (измерительного) импульса определяется концентрацией н.н.з., сохранившихся в образце. В этих условиях падение напряжения на образце в начале измерительного импульса U2 есть функция интервала г между импульсами. Разность амплитуд первого и второго импульсов изменяется при изменении t по закону: Ux-U2 = const-'^т. Фиксируя величину l/t и изменяя г, по наклону прямых {V1 - иг) = * lit) можно определить т. Широкое применение для измерения времени жизни н.н.э. в монокристаллах с УЭС > 100 Ом ? см в интервале тн.вл 60-3200 мкс с погрешностью ±20 % нашел фазовый метод, используемый в установке НЕ-109 (ГДР). Метод заключается в том, что проводимость исследуемого образца модулируется возбуждением н.н.з. с помощью синусоидального модулирования на низкой частоте света. Под действием света в образце возникает синусоидальное напряжение фотоответа, фаза которого <Р, отстает на угол <р2 от фазы возбуждающего луча: <Р = ip4 - <Р2. Из разницы обоих положений фаз можно опредеm лить время жизни н.н.з. в образце: tg <р = и т, где и - частота модуляции света. Еще одним методом, который получил достаточно широкое распространение для измерения тн.н.зв монокристаллическом кремнии, является метод спада фотопроводимости. Образец помещают в высокочастотное поле, создаваемое в ограниченном пространстве специальным резонатором. В области локализации радиочастотного поля проводится возбуждение н.н.з. путем освещения монокристалла импульсами света. Инжектированные светом н.н.з. релаксируют к своему равновесному значению. Время их жизни определяется как время, в течение которого сигнал фотопроводимости падает от некоторого начального значения в е раз. Генерацию избыточных н.н.з. можно проводить с помощью различных источников. При использовании ксеноновой лампы-вспышки нижний предел измерения т составляет ~ 20 мкс. Для измерения времени жизни < 20 мкс требуются источники света с более крутым спадом заднего фронта импульса. В этих случаях успешно используются светодиоды на основе GaAs, максимальная длина волны излучения которых близка к 1 мкм, а достижимое время спада импульса составляет - 100 не (рис. 51). Еще более эффективным источником света может служить лазер на основе иттрийалюминиевого граната, обеспечивающий монохроматическое излучение с длиной волны 1,06 мкм [58]. Такой лазер обеспечивает возможность анализа большого объема кремниевого образца, поскольку излучение с такой длиной волны проникает на глубину 0,85 мкм, в то время как для арсенидгаллиевых светодиодов глубина проникноТаблнца 2. Определение диффузионной длины L L, мм в зависимости от временя жизни неосновных носителей заряда тн н.з и кремнии 'н.н.3. мкс 1155 1374 1595 1831 3253 5089 7317 -9950 0,1 0,2 0,3 0,4 0,5 0,6 0,7 0,8 0,9 1,0 112 I, мм 3,3 8,3 1,1 345 !3,3 33,3 1,2 411 зо.з 75,0 1,3 483 53,3 . 133,3 1,4 560 83,3 208,3 1,5 643 '103,0 293,0 2,0 1143 140,0 407,0 2,5 1787 183,0 521,0 3,0 2575 254,0 658,0 3,5 3500 268,0 813,0 вения в кремний составляет всего ~ 40 мкм, а от ксеноновой лампы-вспышки еще меньше. Другим достоинством лазерного источника является более высокая интенсивность излучения. В последнее время созданы и внедрены измерительные установки, у которых настройка, получение и анализ полученной информации осуществляются электронными устройствами в автоматическом режиме, что снижает субъективные ошибки, вносимые оператором, увеличивает достоверность измерения thhj. Для измерения 1Ш > 10 мкс в монокристаллах кремния диам. 30-150 мм и с УЭС > 2 Ом • см по спаду фотопроводимости используют также установку фирмы "Сименс". В некоторых случаях для оценки качества монокристалла необходимо определять диффузионную длину неосновных носителей. Имеются различные методы измерения этого параметра, однако на практике пользуются простым переводом измеренного тн-в-, в диффузионную длину L: L = )//JT , где D - коэффициент диффузии. Расчетные значения диффузионной длины н.н.з. приведены в табл. 2. Кристаллографическое направление, по которому выращивается монокристалл (ориентация) Кристаллографическое направление, по которому выращивают монокристаллы кремния, зависит от типа его кристаллической решетки, свойств кристаллографических плоскостей и особенностей тех полупроводниковых приборов, которые будут изготовлены на основе этого кремния. Сочетание этих требований привело к тому, что монокристаллы кремния выращивают преимущественно по направлениям [100] и [111]. Однако иногда используют также монокристаллы с направлением продольной оси [013] и [110]. Важным показателем является отклонение плоскости торцевого среза от заданной ориентации. Предусмотренная с |
< К СПИСКУ КНИГ > 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15 16 17 18 19 20 21 22 23 24 25 26 27 28 29 30 31 32 33 34 35 36 37 38 39 40 41 42 43 44 45 46 47 48 49 50 51 52 53 54 55 56 57 58 59 60 61 62 63 64 65 66 67 68 69 70 71 72 73 74 75 76 77 78 79 80 81 82 83 84 85 86 87 88 89 90 91 92 93 94 95 96 97 98 99 100 101 102 103 104 105 106 107 108 109 110 111 112 113 114 115 116 117 118 119 |
Скачать книгу "Технология полупроводникового кремния" (4.95Mb) |
[каталог] [статьи] [доска объявлений] [прайс-листы] [форум] [обратная связь] |
|
Введение в химию окружающей среды. Книга известных английских ученых раскрывает основные принципы химии окружающей
среды и их действие в локальных и глобальных масштабах. Важный аспект книги
заключается в раскрытии механизма действия природных геохимических процессов в
разных масштабах времени и влияния на них человеческой деятельности.
Показываются химический состав, происхождение и эволюция земной коры, океанов и
атмосферы. Детально рассматриваются процессы выветривания и их влияние на
химический состав осадочных образований, почв и поверхностных вод на континентах.
Для студентов и преподавателей факультетов биологии, географии и химии
университетов и преподавателей средних школ, а также для широкого круга
читателей.
Химия и технология редких и рассеянных элементов. Книга представляет собой учебное пособие по специальным курсам для студентов
химико-технологических вузов. В первой части изложены основы химии и технологии
лития, рубидия, цезия, бериллия, галлия, индия, таллия. Во
второй
части книги изложены основы химии и технологии скандия, натрия, лантана,
лантаноидов, германия, титана, циркония, гафния. В
третьей части книги изложены основы химии и технологии ванадия, ниобия,
тантала, селена, теллура, молибдена, вольфрама, рения. Наибольшее внимание
уделено свойствам соединений элементов, имеющих значение в технологии. В
технологии каждого элемента описаны важнейшие области применения, характеристика
рудного сырья и его обогащение, получение соединений из концентратов и отходов
производства, современные методы разделения и очистки элементов. Пособие
составлено по материалам, опубликованным из советской и зарубежной печати по
1972 год включительно.
|
|